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Título : Evaluación fisicoquímica de una formulación a base de surfactante no iónico y aditivos empleados en la fabricación de pinturas
Autor : Pereira, Juan C.
Giesurin Tovar, Lisbeth Karina
Palabras clave : Concentración micelar crítica
Estabilidad sólido-líquido
Punto de turbidez
Ingeniería de procesos
Fecha de publicación : abr-2016
Resumen : El uso de surfactantes no iónicos de tipo nonilfenol etoxilados en el proceso de fabricación de pinturas, han sido empleados a lo largo de la historia para la industria de pinturas con la finalidad de darle tratamiento al agua de manera previa para acondicionarlo al proceso de dispersión de pigmentos. Sin embargo, no se cuenta con amplias referencias que permitan comprender las interacciones que existen entre los aditivos y el surfactante empleados en la etapa previa a la dispersión de pigmentos. En este trabajo se evaluó fisicoquímicamente una formulación a base de surfactante no iónico y aditivos empleados en la fabricación de pinturas emulsionadas. Se obtuvo la concentración micelar crítica (CMC) del surfactante cuyo valor fue de 0,1500%m/v y tensión superficial de 31,37mN/m, empleando el tensiómetro de Dunoy. También se determinó el punto de turbidez de soluciones acuosas de surfactante, cuyo valor obtenido fue 66 °C para concentraciones mayores a 1%m/v. En este estudio se caracterizó el efecto de un polielectrolito y un dispersante sobre la CMC y el punto de turbidez del surfactante. Por último, se caracterizó la estabilidad de sistemas sólido-líquido empleando pigmentos de uso común en la fabricación de pinturas (dióxido de titanio y caolín). Se encontró que efectivamente la estabilidad de estos sistemas, se corresponde con la funcionalidad de cada uno de los aditivos en el proceso de fabricación de pinturas, ya que en presencia de polielectrolito y dispersante la cinética de sedimentación es más lenta comparado con el sistema que no incluye los mencionados aditivos.
URI : http://hdl.handle.net/123456789/4099
Aparece en las colecciones: (Sistemas Productivos) Trabajo de Postgrado

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